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晶圓應力雙折射測量儀
晶圓應力雙折射測量儀PA-110-T，Z大可測8英寸Wafer、藍寶石、SiC晶圓等結晶缺陷的評估，藍寶石或SiC等透明晶圓的結晶缺陷，會直接影響到產品的性能，所以缺陷的檢測和管理是制造過程中不可欠缺的重要環節，目前為止，產線上的缺陷管理，多是使用偏光片以目視方式進行缺陷檢測，但是這樣的檢查方式，因無法將缺陷量化，當各批量間產生變動或者缺陷密度緩慢增加時，就無法以目視檢查的方式正確找出缺陷。
晶圓應力雙折射測量儀PA-110-T
可測8英寸Wafer、藍寶石、SiC晶圓等結晶缺陷的評估 藍寶石或SiC等透明晶圓的結晶缺陷，會直接影響到產品的性能，所以缺陷的檢測和管理，是制造過程中不可欠缺的重要環節。目前為止，產線上的缺陷管理，多是使用偏光片，以目視方式進行缺陷檢測，但是，這樣的檢查方式，因無法將缺陷量化，當各批量間產生變動或者缺陷密度緩慢增加時，就無法以目視檢查的方式正確找出缺陷。
晶圓應力雙折射測量儀PA-110-T將特殊的高速偏光感應器與XY stage 結合起來， 8英寸晶圓僅需5分鐘，即可取得整面的雙折射分布資料。
所以由定量化的結晶缺陷評估，提高雙折射品質的穩定性。
Wafer整面的雙折射數據，可將結晶缺陷程度數值化。
晶圓應力雙折射測量儀PA-110-T特點：
1， XY自動Stage 拼貼功能
針對大尺寸的Wafer 數據，以拼貼方式自動合成。
2， 使用大口徑遠心鏡頭
以垂直光線進行測量，因不受視角影響，連周邊區域都可高精度測量。
測量原理
當光線穿透雙折射特性的透明物質時，光的偏光狀態會產生變化（光彈性效應）。換句話說，比較光穿透透明物體前與后的偏光狀態，即可評估物質的雙折射。
該設備裝配的偏光感應器，使用了本司特有的Photonic結晶組裝而成， 能瞬間將偏光信息以影像方式保存， 再搭配專屬的演算，影像處理軟件，能將雙折射分布數據定量化，使得分析變得更加便利。
可觀察的晶圓尺寸與貼合影響
自動影響貼合功能，可觀察8英寸Wafer
φ 8 inch（4×5）
晶圓應力雙折射測量儀PA-110-T 規格：
項目 | 規格 |
測量范圍 | 0～130nm |
重復精度 | ＜1nm |
偏光像素 | 1120×868pixels |
測量波長 | 520nm |
尺寸 | 如下圖 |
電源 | AC100～240v 50/60HZ |
軟件 | PA-110-Rasterscan, PA-View |
其他配件 | 臺式電腦 |
